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真空镀膜装置

为了高质真空喷涂,设备安装了现代化配套设施,而且配有各级等离子工艺源,真空镀膜装置得以综合改善:

  • 进行Al, Cr, Ni 金属喷涂可降低气孔率,增强附着力;
  • 涂ZnS硫化物,MgF2氟化物大大增强了附着力、涂层密度;
  • 涂Al2O3 , TiO2, Cr2O3, ZrO2, V2O3 氧化物 降低了消耗,增强了附着力;
  • 涂碳化物、氮化物、TiN, TiCN, ZnN, CrN, AlCrN, AlTiN 碳氮化物 ,增强附着力及涂层密度。

设计、制造以下真空镀膜装置:

装饰保护涂层真空镀膜装置包含几种工艺,可对各种材料制品在低温下进行大范围的彩色喷涂。

为了进行金属底层表面的处理,特别是装饰涂层的处理,制造电解质等离子抛光装置,可提高表面质量2-3级(降低粗糙度),而且保证涂层的高性能。

装置允许对小尺寸器具、小件、假牙、牙冠涂装置保护性、加强性(氮化物、碳化物、碳氮物、氧化物)涂层及各种颜色进行喷涂。

真空镀膜装置允许以自动模式喷涂多用途多层光学涂层:透明的、反光的、干扰的、极化的、导电的、保护的、吸收光线的以及其它涂层。

金刚石涂层真空喷涂机利用等离子源进行金属、光学器材、合金喷涂。DLC设备可在低工作温度下对产品喷涂。DLC装置可借助电脑程序采用手动及自动工作模式。

真空流水线用于自动模式使用综合方式喷涂广泛的涂层(装饰保护、加强、光学)。

各种结构的真空设备,磁控管、离子电源、真空电弧蒸发器,与现代供电及控制设备,以及其它仪器和设备的结合,可形成高品质、周期性循环的加强涂层。

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